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华为传出先进AI晶片制造良率已从20%提升到近40%。(路透) 英国金融时报引述知情人士称,中国科技巨头华为自主生产的最先进AI晶片制造良率,已由一年前的20%提高到接近40%,是支持先进晶片自主的一项关键性突破,为中国建立AI产业运算基础设施又迈进一步。 报导指,华为已推出最新的升腾910C(Ascend 910C)AI晶片,效率优于原先的910B晶片。华为已将其制造良率从一年前的20%,倍增至接近40%。华为已设下目标,要把良率提升至60%,追上业界标准。 顾问公司Creative Strategies分析师里昂斯将华为这一进展,与台积电代工生产辉达“H100”AI晶片达到60%良率相提并论,直指两款晶片的尺寸类似,从这个基础看,即使华为的良率只有40%,仍具商业价值。 华为是委托中芯国际以所谓的“N+2”制程代工生产升腾晶片,这种制程不需要极紫外光(EUV)微影技术也能生产先进晶片。受到美国管制冲击,中国目前无法向荷兰半导体设备巨擘艾司摩尔(ASML)采购EUV设备。 消息人士指,华为计划今年生产10万片910C晶片,及30万片910B晶片;去年华为生产20万片910B晶片,而910C晶片尚未量产。这些数据显示,辉达在中国的AI晶片销售量依旧高于华为。 报导认为,华为的挑战在于说服更多客户放弃辉达晶片。业界人士指,辉达的Cuda软体比华为提供的软体更好用、处理数据更快。AI业者与华为研究人员也表示,用升腾910B晶片进行大型语言模型训练时运作并不好。 |
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