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中国开始量产国产 DUV 芯片制造设备,本土芯片产业取得进展

加新网CACnews.ca| 2026-7-27 20:36 |来自: 新浪财经

来源:市场资讯

(来源:BenchmarkAGI Benchmark Studio)

据《The Information》报道,一家中国国资背景的公司已首次开始制造芯片生产中的关键设备之一。据两名知情人士透露,这家总部位于上海的公司正在制造浸没式深紫外(DUV)光刻机。这是台积电等芯片制造商在生产芯片时使用的一种关键设备。

相关知情人士要求不具名。据知情人士透露,该公司汇集了来自其他中国公司的浸没式 DUV 研发团队,其中包括一家名为上海宇量升科技的政府背景芯片设备初创公司。

中国开始量产国产 DUV 芯片制造设备,本土芯片产业取得进展

如果这款中国研发的 DUV 设备能成功在国产芯片制造厂投入量产,它将取代荷兰公司 ASML 的设备,后者目前是全球主要的芯片制造设备供应商。

这一进展还表明,华盛顿通过限制国内获取最先进设备来遏制其本土芯片产业的努力并未奏效。美方实施的出口规则目前禁止中国芯片制造商购买 ASML 最尖端的极紫外(EUV)光刻机,迫使其依赖 ASML 较旧的浸没式 DUV 工具。但目前正在国会审议的跨党派法案《匹配法案》(Match Act)将扩大对浸没式 DUV 设备的限制,并遏制对部分国内芯片厂相关工具的维修服务。

EUV 和 DUV 光刻机在芯片制造中都至关重要,用于在硅晶圆上打印电路图案。EUV 主要用于生产最尖端的芯片。

除了在 DUV 领域取得突破外,据两名知情人士透露,中国还在研发国产 EUV 光刻机,但该项目仍处于原型阶段,可能还需要数年时间才能生产出可工作的芯片。

然而,DUV 的进展仍处于早期阶段。据上述两名知情人士透露,这家上海公司计划今年制造约 5 台 DUV 设备,到 2027 年制造约 20 台。这个产量与 ASML 相比微乎其微,后者去年交付了 131 台浸没式 DUV 系统。

据这两位知情人士透露,这些 DUV 系统定于今年交付给包括中芯国际(SMIC)、华虹半导体(Hua Hong Semiconductor)和存储芯片制造商长鑫存储(CXMT)在内的本土芯片制造商。宇量升、中芯国际、华虹和长鑫存储均未回应置评请求。

国产设备要被视为成功,仍有很长一段路要走。将国产 DUV 光刻机投入大规模生产线可能需要数月甚至更久,国产芯片制造商需要测试其精度、可靠性以及与其他设备的兼容性。据两位知情人士透露,客户的反馈将有助于解决问题并改进机器,而这些机器在性能和制造质量上仍落后于 ASML 的产品。

虽然浸没式 DUV 机器的复杂程度不及 EUV,但传统上一直依赖于由专业供应商组成的全球网络。据两位知情人士透露,国产 DUV 主要使用国内零部件,不过一些关键部件来自日本。他们补充说,由于当地供应商的延误,今年的生产进度有所放缓。

因此,ASML 目前面临的直接威胁较小。但国内产量的上升可能会逐渐侵蚀其在中国市场的地位,特别是如果西方更严厉的限制加速了中国芯片制造商向国产设备的转型。

与此同时,全球人工智能热潮正使芯片供应趋于紧张,迫使制造商扩大产能,从而增加了对 ASML 产品的需求。中芯国际在 5 月份的财报电话会议上表示,由于其他地方产能紧张,海外客户正寻求在本土制造芯片。这种扩张将需要更多的光刻机,即在硅片上打印电路图案的关键设备。

ASML 最近已采取措施提高价格。据《The Information》报道,几家中国客户已同意为一些较低端的 DUV 产品线多支付约 10% 的费用。国产 DUV 的生产最终可能为中国买家提供另一个设备来源。

国产 DUV 光刻机初期可能有助于大规模成熟芯片的产能,包括对 AI 服务器和数据中心至关重要的电源管理组件。这些芯片虽不如 AI 处理器先进,但其短缺仍可能阻碍整个计算系统的构建。

浸没式 DUV 还可以通过多次曝光(一种成本高昂且难度较大的工艺,即多重曝光)来制造更先进的半导体。尽管无法获得 EUV 设备,中芯国际已采用这种方法为智能手机和人工智能系统生产先进芯片。

中国在 2002 年将光刻技术列为国家重点项目,同年台积电提出了浸没式光刻技术,该技术通过在机器透镜和晶圆之间使用水来印刷更小的电路。ASML 将这一方法转化为商业系统,使芯片制造商多年来能够生产更小、更强大的芯片。

美国在 2022 年对先进芯片制造技术实施了全面管制,这促使商业界方面彻底改革了 DUV 研发工作,从政府主导的研发转向商业执行,并由华为技术有限公司负责协调行业资源。

据两位知情人士透露,这家上海公司去年向部分芯片制造商交付了原型机。他们补充道,令人鼓舞的测试结果为今年开始量产铺平了道路。

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